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ATAGO愛(ài)拓半導體光刻膠折射率阿貝折光儀

型號:DR-M4

更新時(shí)間:2023-09-27

簡(jiǎn)要描述:

ATAGO愛(ài)拓半導體光刻膠折射率阿貝折光儀 DR-M2/M4(最大1,100nm),可在波長(cháng)450至1,100nm范圍內,使用不同的波長(cháng)測量折射率(nD)和阿貝數值。廣泛用于測量:濃縮果汁、香精香料、工業(yè)溶液、化工材料、光學(xué)玻璃、塑料薄

詳細介紹

光刻膠又稱(chēng)光致抗蝕劑,是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括:光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹(shù)脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過(guò)光化學(xué)反應,經(jīng)曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩(掩模版)轉移到待加工基片上。依據使用場(chǎng)景,這里的待加工基片可以是集成電路材料,顯示面板材料或者印刷電路板。


在平板顯示行業(yè):主要使用的光刻膠有彩色及黑色光刻膠、LCD觸摸屏用光刻膠、TFT-LCD正性光刻膠等。在光刻和蝕刻生產(chǎn)環(huán)節中,光刻膠涂覆于晶體薄膜表面,經(jīng)曝光、顯影和蝕刻等工序將光罩(掩膜版)上的圖形轉移到薄膜上,形成與掩膜版對應的幾何圖形。


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PCB行業(yè):主要使用的光刻膠有干膜光刻膠、濕膜光刻膠、感光阻焊油墨等。干膜是用特殊的薄膜貼在處理后的敷銅板上,進(jìn)行曝光顯影;濕膜和光成像阻焊油墨則是涂布在敷銅板上,待其干燥后進(jìn)行曝光顯影。干膜與濕膜各有優(yōu)勢,總體來(lái)說(shuō)濕膜光刻膠分辨率高于干膜,價(jià)格更低廉,正在對干膜光刻膠的部分市場(chǎng)進(jìn)行替代。

在半導體集成電路制造行業(yè):主要使用g線(xiàn)光刻膠、i線(xiàn)光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠等。在大規模集成電路的制造過(guò)程中,一般要對硅片進(jìn)行超過(guò)十次光刻。在每次的光刻和刻蝕工藝中,光刻膠都要通過(guò)預烘、涂膠、前烘、對準、曝光、后烘、顯影和蝕刻等環(huán)節,將光罩(掩膜版)上的圖形轉移到硅片上。


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光刻膠是集成電路制造的重要材料:光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。光刻工藝的成本約為整個(gè)芯片制造工藝的35%,并且耗費時(shí)間約占整個(gè)芯片工藝的40%~50%。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%,市場(chǎng)巨大。因此光刻膠是半導體集成電路制造的核心材料。

按顯示效果分類(lèi),光刻膠可分為正性光刻膠和負性光刻膠。負性光刻膠顯影時(shí)形成的圖形與光罩(掩膜版)相反;正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同。兩者的生產(chǎn)工藝流程基本一致,區別在于主要原材料不同。
按照化學(xué)結構分類(lèi);光刻膠可以分為光聚合型,光分解型,光交聯(lián)型和化學(xué)放大型。光聚合型光刻膠采用烯類(lèi)單體,在光作用下生成自由基,進(jìn)一步引發(fā)單體聚合,最后生成聚合物。

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光分解型光刻膠,采用含有重氮醌類(lèi)化合物(DQN)材料作為感光劑,其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應,可以制成正性光刻膠;

在半導體集成電路光刻技術(shù)開(kāi)始使用深紫外(DUV)光源以后,化學(xué)放大(CAR)技術(shù)逐漸成為行業(yè)應用的主流。在化學(xué)放大光刻膠技術(shù)中,樹(shù)脂是具有化學(xué)基團保護因而難以溶解的聚乙烯?;瘜W(xué)放大光刻膠使用光致酸劑(PAG)作為光引發(fā)劑。


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按照曝光波長(cháng)分類(lèi),光刻膠可分為紫外光刻膠(300~450nm)、深紫外光刻膠(160~280nm)、極紫外光刻膠(EUV,13.5nm)、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線(xiàn)光刻膠等。不同曝光波長(cháng)的光刻膠,其適用的光刻極限分辨率不同。通常來(lái)說(shuō),在使用工藝方法一致的情況下,波長(cháng)越短,加工分辨率越佳。


可測量不同波長(cháng)下的折射率與阿貝數值,數字顯示,準確清晰,活動(dòng)光源,可定做濾光片,對薄膜的XYZ軸有特殊方法檢測!


ATAGO愛(ài)拓半導體光刻膠折射率阿貝折光儀 DR-M2/M4(最大1,100nm,可在波長(cháng)4501,100nm范圍內,使用不同的波長(cháng)測量折射率(nD)和阿貝數值。測量結果通過(guò)調整分界線(xiàn)至十字交叉點(diǎn)確定,測量結果在LCD顯示屏以數字形式顯示,與傳統型阿貝折射儀相比,讀數更快速更清晰。尤其適合高精度測量眼鏡片等聚酯材質(zhì)的折射率。


ATAGO愛(ài)拓半導體光刻膠折射率阿貝折光儀,廣泛用于測量:濃縮果汁、香精香料、工業(yè)溶液、化工材料、光學(xué)玻璃、塑料薄膜、各種新型材料及某些固體物質(zhì)的折射率(nD)Brix值。



 


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